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半导体生产废水处理案例|半导体生产废水处理方法

建设项目情况 该半导体设备制做开发区设在华南地区划分,总投入资金多于2005亿,主耍生育12屏幕尺寸晶圆和为先进封装类型物品。开发区日尾气排出废储水量约5000吨,收录很多技术废液,工作分值大。工程的要求废液工作后做到《电子无线工业品水被有害物质尾气排出规范》(GB 39731-2020)相当尾气排出规定值,部位回收利用率不不超60%。 废渣材料及来自 含氟污废水 :其主要是来自于晶圆蚀刻、除污步骤,氟化合物酸度到达200-500mg/L,pH值上下波动大 有机质物生产废水:光刻、成像、去胶等多种工序引起,COD氧化还原电位300-800mg/L,内含异丙醇、二甲苯等有机质物高沸点溶剂 含铜生活污水:电镀锌、普通自动化自动化打磨抛光(CMP)环节形成,铜亚铁离子浓度值50-150mg/L 强酸强碱污废水 :产品清晰、废水干洗等的环节产生了,pH值在2-12当中起伏 碾磨污废水 :CMP环节产生了,内含纳米级级二空气氧化硅颗粒状 进行处理施工生产流程图图 用到"细分征集+分质工作+长度油烟净化"的组合起来生产技术: 含氟废水清理清理线 : 二级化学式结晶:先加药系统氯化钙可以调节pH至6-7,多加入PAC和PAM斜管结晶池结晶 特异性腐蚀铝吸收:加强组织领导氟阳离子溶度降落到5mg/L一些 飞灰经板框压滤后请求靠谱妥善处理 生物碳焦化废水操作线 : 微电解设备抛光预除理:铁碳微电解设备抛光降解塑料分子结构无机物 UASB水解酸化池的管式反应器:HRT=24h,COD避开率>60% MBR膜动物想法器:选用PVDF空心玻璃纤维膜,通量15LMH 含铜生产废水治理线 : 电化学悠长岁月中出的:添加NaOH改善pH至9-10,建立Cu(OH)2悠长岁月中出的 阴阳亚铁离子对换:两极树脂胶对换确保铜阴阳亚铁离子<0.3mg/L 钛电极设备收旧公司:位置废污水经钛电极设备收旧公司重金属铜 综合性净化处理操作系统 : 调试池:均等化水硬度用水量,设暴气打料 水泥混凝土凝固:加药塑料二沉池剂消除悬浊液物 三氧催化被氧化被氧化:生物生物降解难生物生物降解无机物 反覆盖设备:脱盐率>98%,产水中水回用于生育线 厌氧颗粒污泥加工处理设计 : 污泥处理精提池:胶体密度从1%提高自己至3% 离心式脱水过滤:填加PAM调理改善,泥饼水分含量率<75% 高湿干化:部门污水干化至含水分率30%如下 终结体验 建设项目建于开机运行后,一项指标图保持稳定高达:氟化物<5mg/L、COD<30mg/L、铜正离子<0.3mg/L、pH 6-9。回收水水质条件高达GB/T 19923-2005化工自来水条件,回收率65%,第年节省鲜美水水量约140万吨。厌氧颗粒污泥生产量减低40%,危机窝囊废处治的成本削减35%。程序电脑工业自动化限度高,线监测器数据报告与干净团队实时更新网络。

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