某半导体芯片厂在生产加工操作过程中动用盐酸系定影液，引发高氧浓度含NOx废水进行清理工艺，日进行生产量50吨。废水进行清理工艺中含NO2-到达2000mg/L，且包含有氢化物发生器有机酸光刻胶材料，进行清理麻烦更大。 2. 生产废水物质及起源 成像工步废水（基本生态破坏源） 晶圆洗掉废水处理方法 的废气洗滌塔排水障碍 3. 治理艺步奏 采用了"高等 钝化+多级生物技术治理 "去创新工艺技术： 嗅氧氧化的 ：按照什么是臭氧有器生成O3，将难光降解设计物细化为小原子物料，一起将NO2-氧化物为NO3-。 生物体膜不良物反应器（MBR） ： 第1 级：星球基地区域下加药甲醇最为碳源，有助于反反硝化作用反映 二级：好氧生物学膜进步骤挥发可挥发物 电药剂学广度处置 ：采用了钛基铝层电级，按照电解法的功效齐全分离多余废弃物物。 4. 最中郊果 NOx总氮降为8mg/L以內 COD增强在30mg/L以下 生产废水中水回用率达60% 软件系统启动用电量管理在3.5kWh/吨水，较以往工艺设备低碳20%。