某半导体器件集成块形成厂在晶圆制作加工工作中，使用的硅烷来硅外加繁殖，氮氧化合物清洗塔形成高氧浓度含硅废污水。废污水兼有pH上下波动大（2-11）、硅含量高的结构特征，传统文化加工的方法易发现硅垢闭塞故障。 污水成分表及来源地 污水最主要组分为： 溶解完性硅酸盐 ：SiO₂质量浓度达1000-1500mg/L 浓盐酸/氢空气氧化钠 ：洗衣机清洗塔酸性洗衣机清洗液残余 顆粒硅 ：納米级SiO₂氢氧化铁 痕量砷 ：塑料原材料杂物带 治疗制作工艺标准流程 去创新采用了"多级结合+膜筛选+蒸发掉成果"的工艺： 两级采和 ：用CaO的调节pH至4-5，制成硅酸钙析出，硅去掉率60%。 特殊中合 ：加Na₂CO₃将pH大幅提升至9，进几步悠长岁月中累计硅，并接用镁剂除砷。 反渗透膜系统性 ：0.02μm陶瓷制品膜过滤系统微米级硅粒子，通量稳定的在80LMH。 MVR多效冷凝器 ：浓缩造成高盐焦化废水，晶体出Na₂SO₄副食品，水中水回用率超90%。 从而感觉 总硅从1500mg/L高于5mg/L低于 砷占比从0.8mg/L降为0.01mg/L 体系无水垢进行超出2年 每季度出售盐酸钠晶胞约800吨