某光电器件生产中小型企业因晶圆的清洗多种工序会产生含氨污废水 ，用水量200吨/天。污废水 中除高锰酸盐指数外还有效氟化物和微量分析天价属，加工处理关卡大。本土进行排放规则想要高锰酸盐指数＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 焦化废水组成及源 晶圆清晰电镀废水（通常主要来源）：含氧化还原电位200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀工艺流程废水处理方法：含轻微铜、镍等血本属，pH值上下波动大 CMP打磨废渣：含硅小粒及化学需氧量 补救方法程序 进行"电化学沉积+膜剥离+折点氯化"組合工序： 预处里 ：加药CaCl2除氟，控住pH在7.5-8. 超滤膜体统 ：出掉0.01μm以上的烟粉尘物 反渗透膜工作会更精炼 ：将氯离子浓缩咖啡至1000mg/L这些 折点氯化 ：准确度把握氯加药系统量，将氯离子转换为N2 铁离子交互 ：保障机制巨资属未达标 终于体验 化学需氧量平稳＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 巨资属纯度小于查测限 水循环率达75% 废水导致量抑制40%